『题目』：一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是
答案:
A.取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
1、一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm。处理方法是
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2、患者，缺失，可摘局部义齿修复1个月。主诉：义齿压痛。检查发现：基牙为双臂卡环固位体，承托区黏膜弥散性红肿
义齿压痛的原因是
答案:
A.基牙无支持作用，义齿下沉
3、患者，缺失，可摘局部义齿修复1个月。主诉：义齿压痛。检查发现：基牙为双臂卡环固位体，承托区黏膜弥散性红肿
旧义齿的设计缺陷是
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4、患者，男性，62岁，缺失，口腔检查发现其区牙槽嵴吸收严重，呈窄条状，患者口述其原义齿有压痛现象。以为基牙进行可摘局部义齿修复，余留牙正常。
在进行该义齿的后牙排列时，与对颌牙的接触面积正确的是
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5、患者，男，50岁，缺失，复杂局部义齿修复，戴义齿时发现塑料基托上有多处颜色深浅不一，其原因是
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6、患者，男性，62岁，缺失，口腔检查发现其区牙槽嵴吸收严重，呈窄条状，患者口述其原义齿有压痛现象。以为基牙进行可摘局部义齿修复，余留牙正常。
对于患者所述原义齿有压痛现象，此次修复时，可根据缺失区牙槽嵴吸收严重的情况，采取正确的措施
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